Thứ Tư, 5 tháng 1, 2022

Bài 26 - Mạ hóa học niken - Ảnh hưởng của chất điều chỉnh pH: NaOH, NH3 và K2CO3

Gần đây mình có nhận được câu hỏi về mạ hóa học niken “tại sao có tài liệu cho rằng điều chỉnh pH của dung dịch mạ hóa học niken bằng K2CO3 thì cho độ ổn định tốt hơn so với NH3?” Để làm sáng tỏ vấn đề này mình đã thiết kế thí nghiệm để tìm hiểu cụ thể.

Trước hết, nói lại về dung dịch mạ hóa học niken, các nhà sản xuất thường thiết kế theo kiểu 3-type hoặc 4-type. 3 và 4 ở đây là loại hóa chất đi cùng nhau, thường ký hiệu là M, A, B, C. M thường chứa chất tạo phức, chất khử; A chứa ion Ni2+, thường là NiSO4; B chứa chất khử NaH2PO2; và C chứa chất điều chỉnh pH.

Khi đó pha chế ban đầu là M + A

Bổ sung dùng A, B, C.

Ở đây, chất C có thể là lựa chọn riêng cho khách hàng, khi đó khách hàng có thể sử dụng NH3 hoặc K2CO3 để điều chỉnh pH thay vì mua từ nhà sản xuất. Trong quá trình vận hành bể mạ, NaH2PO2 sẽ bị oxi hóa thành NaH2PO3 + H+ và electron để cung cấp cho quá trình khử Ni2+ thành Ni0. Do vậy, pH của bể mạ sẽ giảm dần theo thời gian sử dụng. Khi pH giảm, cần phải điều chỉnh cho tăng lại để tốc độ mạ được duy trì. Để điều chỉnh pH, các công ty phổ biến sử dụng NaOH, NH3 và K2CO3. Vậy trong 3 chất này, chất nào sử dụng để điều chỉnh pH sẽ cho kết quả tốt hơn?

Thí nghiệm thiết kế như sau:

Pha chế ban đầu 3 dung dịch mạ hóa học giống hệt nhau, nồng độ Ni2+ = 5 g/L; Chất khử 30 g/L; Chất ổn định =1/3 so với dung dịch thương mại chuẩn vì nếu sử dụng đúng tỷ lệ thì có thể sự khác biệt khi sử dụng các chất điều chỉnh pH có thể là không rõ ràng (mình xin không công bố loại chất ổn định sử dụng ở đây), các chất khác như chất tạo phức, chất tạo càng, đệm pH được sử dụng theo nồng độ của dung dịch thương mại, đạt 7 MTO. Đây là dung dịch mạ hóa niken cho ra hàm lượng P trung bình 8~10%.

Khi test MTO (Metal Turn Over) sẽ bổ sung A (Ni2+ = 100 g/L), B, C theo tỷ lệ, 1 g Ni2+ = 10 mL A + 10 mL B + 10 mL C. (Ai muốn tìm hiểu lại về MTO thì xem lại một số bài viết cũ ở link bên dưới).

Trong đó,          B chứa NaH2PO2

C chứa NaOH, NH3 hoặc K2CO3.

Bể mạ vận hành ở 88~92 oC, Loading là 4 dm2/L, tốc độ bổ sung ~4 g Ni2+/giờ, khuấy từ.

Một số chất tạo phức, càng, đệm cũng được tính toán để bổ sung trong quá trình test MTO.

 

 Hình 1: Hình ảnh 3 dung dịch sau khi pha chế.

Trường hợp 1: Các chất bổ sung khác được kết hợp trong dung dịch B cùng NaH2PO2, C chỉ chứa NaOH, hoặc NH3, hoặc K2CO3.

Sau khi mạ được 2 turn, bề mặt sản phẩm trong dung dịch dùng NaOH điều chỉnh pH bị nhám, gai rất nặng. Dung dịch xuất hiện một số kết tủa dưới đáy bình. Dung dịch sử dụng NH3 và K2CO3 không có bất cứ vấn đề gì, mẫu mạ sáng.

Kết luận: Nếu chỉnh pH bằng dung dịch chỉ chứa NaOH sẽ làm Ni(OH)2 dễ bị kết tủa, bám lên bề mặt, làm gai lớp mạ, kết tủa này có thể là trung tâm để hình thành các kết tinh gây hỏng dung dịch mạ. Trong khi, nếu chỉ dùng NH3 hoặc K2CO3 thì dung dịch cho chất lượng lớp mạ tốt.


Trường hợp 2. Dung dịch C được thay đổi khi kết hợp cùng các chất bổ sung khác, đặc biệt là chất ổn định. Dưới đây là một số kết quả thu được.

Hình 2 so sánh tốc độ mạ khi sử dụng 3 chất điều chỉnh pH khác nhau: NaOH, NH3 và K2CO3 ở nhiệt độ 80 và 90 oC. Mẫu mạ được tiến hành trên nền đồng. Ở 80 oC, sự khác biệt về tốc độ mạ khi sử dụng 3 chất chỉnh pH trên là gần như không đáng kể, đạt tốc độ khoảng 9~10 micromet/h. Tuy nhiên, khi sử dụng NH3 để chỉnh pH thì tốc độ mạ có xu hướng hơi cao hơn một xíu so với 2 mẫu còn lại. Sự khác biệt này là đáng kể khi mạ ở nhiệt độ 90 oC. Tốc độ mạ trong dung dịch dùng NH3 làm chất chỉnh pH cao hơn chừng 8~10% so với hai dung dịch chỉnh pH bằng NaOH và K2CO3. Khi chỉnh pH bằng NaOH hay K2CO3 thì tốc độ khác biệt là không nhiều.


 Hình 2: Tốc độ mạ khi sử dụng 3 chất điều chỉnh pH khác nhau: NaOH, NH3 và K2CO3 ở nhiệt độ 80 và 90 oC. Mẫu mạ được tiến hành trên nền đồng.

 

Hình 3 là ảnh chụp bình thủy tinh sau khi mạ đạt 5 MTO. Có thể thấy rõ ràng lượng kết tủa sinh ra dưới đáy bình khi mạ trong dung dịch dùng NH3 làm chất chỉnh pH nhiều hơn đáng kể so với 2 dung dịch còn lại là NaOH và K2CO3. Nếu so sánh NaOH và K2CO3 thì bình chỉnh pH bằng dung dịch K2CO3 xuất hiện ít kết tủa hơn. Như vậy, nếu mạ tới 5 MTO thì đánh giá độ ổn định theo mức giảm dần là K2CO3 > NaOH >> NH3.


 Hình 3: Ảnh chụp bình thủy tinh sau khi mạ đạt 5 MTO.

 

Đến đây có thể khẳng định rẳng, nếu chỉnh pH bằng NH3 sẽ làm dung dịch kém ổn định hơn, dễ sinh ra nhiều kết tủa Ni so với NaOH và K2CO3. Vậy lý do là do đâu?

Khi sử dụng chất điều chỉnh pH bằng NaOH, khi cho vào dung dịch, phản ứng cơ bản nhất là phản ứng trung hòa H+ bằng ion OH-. Tuy nhiên, do dung dịch NaOH có pH rất cao, cỡ 14 nên khi cho vào dung dịch thì Ni(OH)2 cũng hình thành, sau đó sẽ tan lại. Việc hình thành này có thể dẫn tới Ni(OH)2 bám vào bề mặt gây nhám lớp mạ, hoặc hình thành trung tâm kết tinh, giảm tính ổn định của bể mạ.

Khi sử dụng chất điều chỉnh pH là K2CO3 (pH ~11.6), khi cho vào dung dịch chỉ có phản ứng giữa CO32- + H+ --> CO2 + H2O. Không liên quan gì tới ion Ni2+, nên dung dịch cho sự ổn định khá tốt.

Khi sử dụng chất điều chỉnh pH là NH3, hay NH4OH (pH ~11), thì OH- cũng phản ứng với H+ để thành H2O. Tuy nhiên, NH3 có thể liên kết tạo phức với Ni2+ hình thành dạng [Ni(NH3)6-x(H2O)x], tạm viết tắt là [Ni-NH3]2+. Phức này có thế khử chuẩn E0 = -0.277 V (vs. SHE) gần bằng thế khử chuẩn của Ni là -0.26 V, là lớn hơn hiều so với một số chất tạo phức khác với Ni, ví dụ phức citrate (E0 = -0.37 V), phức oxalate (E0 = -0.442V). Điều này có nghĩa là khi sử dụng NH3 thì Ni2+ sẽ dễ bị khử thành Ni0 hơn, so với các chất tạo phức khác, tuy nhiên, vì dễ bị khử thành Ni0 nên khả năng khử này không những xảy ra trên bề mặt mạ mà cả các vị trí khác trên bể. Hay nói một cách đơn giản, dễ mạ hơn thì sẽ dễ kết tủa hơn. Vì vậy, sẽ làm giảm tính ổn định của bể mạ.

Do dễ khử hơn nên sử dụng NH3 làm chất điều chỉnh pH cũng cho ra tốc độ mạ cao hơn so với NaOH hay K2CO3 như kết quả ở Hình 2. Vậy có nên dùng NH3 làm chất để điều chỉnh pH?

Hình 4 là hình ảnh chụp bằng kính hiển vi quang học, phóng đại 200 lần, bề mặt lớp mạ hóa niken với thời gian mạ là 20 phút, ở các MTO thứ 1, 3 và 5. Bề mặt lớp mạ hóa bình thường luôn xuất hiện các chấm nhỏ do việc phát triển không đồng đều. Chấm đen này tăng khi tăng thời gian sử dụng của bể, nó xuất hiện nhiều hơn khi sử dụng chất điều chỉnh pH là NaOH, ít hơn với K2CO3 và nếu sử dụng NH3 thì nó là không đáng kể, thậm chí khi mạ tới 5 MTO. 


Hình 4: Ảnh chụp bằng kính hiển vi quang học, phóng đại 200 lần, bề mặt lớp mạ hóa niken với thời gian mạ là 20 phút, ở các MTO thứ 1, 3 và 5.

 

Bề mặt lớp mạ sử dụng NH3 để chỉnh pH cho ra lớp mạ có độ bóng cao hơn so với NaOH hay K2CO3.

Về mặt giá thành, chi phí để chế tạo 1 L dung dịch khi sử dụng NaOH, NH3 và K2CO3 tương ứng là 2.4, 3.1 và 4.5$ (giá tính theo giá hóa chất thí nghiệm của công ty Daejung http://www.daejungchem.co.kr). Như vậy, sử dụng NaOH có giá thấp nhất, bằng khoảng 1 nửa so với K2CO3.

Về vận hành, nếu sử dụng NaOH thì dung dịch bổ sung cần thiết kế nghiêm ngặt hơn để hạn chế hình thành Ni(OH)2 gây nhám, gai lớp mạ. NH3 gây mùi, tuy nhiên, ở nồng độ bổ sung khoảng 9% thì mùi cũng hạn chế, khi bổ sung vào bể không bị sôi cục bộ. K2CO3 thì khi bổ sung phải hết sức chú ý vì phản ứng sinh ra CO2 rất mạnh, lượng bọt/bong bóng sinh ra rất nhiều.

 

Kết luận:

-          NaOH rẻ nhất, nhưng bể mạ khó điều khiển hơn, yêu cầu dung dịch bổ sung cần thiết kết tốt.

-          NH3 cho lớp mạ bóng, tốc độ mạ cao, dung dịch mạ không đạt sự ổn định cao bằng K2CO3 hay NaOH. Ở nồng độ bổ sung khoảng 9% không gây mùi nặng hay sôi khi bổ sung vào bể.

-          K2CO3 cho dung dịch ổn định cao, tuy nhiên, giá thành cao và cần chú ý cẩn thận khi bổ sung vì phản ứng thoát khí mạnh.

 

Link: Một số bài viết tham khảo

http://ngvanphuong.blogspot.com/2020/11/danh-muc-cac-bai-viet.html

 

Thứ Năm, 26 tháng 11, 2020

Danh mục các bài đã viết

Mạ hóa học nickel, đồng – Nickel, copper electroless plating

 

1. Mạ hoá học nickel (electroless nickel plating) – Tổng quát

http://ngvanphuong.blogspot.com/2019/09/bai-1-ma-hoa-hoc-nickel-electroless.html

 

2. Các vấn đề đối với bể mạ electroless nickel (EN) plating

http://ngvanphuong.blogspot.com/2019/09/bai-2-cac-van-e-oi-voi-be-ma.html

 

3. Những vấn đề và cách giải quyết trong quá trình vận hành bể mạ electroless nickel plating

http://ngvanphuong.blogspot.com/2019/09/bai-3-nhung-van-e-va-cach-giai-quyet.html

 

4. Các ứng dụng của mạ hóa nickel

http://ngvanphuong.blogspot.com/2019/10/bai-7-cac-ung-dung-cua-ma-hoa-nickel.html

 

5. Vận hành bể mạ điện nickel, các vấn đề thường gặp và cách giải quyết

http://ngvanphuong.blogspot.com/2019/11/bai-12-van-hanh-be-ma-ien-nickel-cac.html

 

6. Mạ hóa học đồng, Cu electroless plating

http://ngvanphuong.blogspot.com/2019/12/bai-15-ma-hoa-hoc-ong-cu-electroless.html

 

7. Mạ hóa nickel, những câu hỏi thường gặp

http://ngvanphuong.blogspot.com/2019/12/bai-16-ma-hoa-nickel-nhung-cau-hoi.html

 

8. Mạ hóa nickel – composite (mạ phức hợp)

http://ngvanphuong.blogspot.com/2020/02/bai-18-ma-hoa-nickel-composite-ma-phuc.html

 

9. Mạ hóa học nickel-boron (NiB)

http://ngvanphuong.blogspot.com/2020/06/bai-21-ma-hoa-hoc-nickel-boron-nib.html

 

10. Mạ hóa học nickel ở nhiệt độ thấp (20-35 oC)

http://ngvanphuong.blogspot.com/2020/08/bai-23-ma-hoa-hoc-nickel-o-nhiet-o-thap.html

11. Mạ hóa học niken - Ảnh hưởng của chất điều chỉnh pH: NaOH, NH3 và K2CO3

https://ngvanphuong.blogspot.com/2022/01/ma-hoa-hoc-niken-anh-huong-cua-chat-ieu.html


Lớp phủ hóa học – Chemical conversion coating

 

1. Giới thiệu về hợp kim magnesium (Magie, Magnesium alloy)

http://ngvanphuong.blogspot.com/2019/09/gioi-thieu-ve-hop-kim-magnesium-magie.html

 

2. Lớp phủ hoá học, Chemical Conversion Coatings

http://ngvanphuong.blogspot.com/2019/10/bai-9-lop-phu-hoa-hoc-chemical.html

 

3. Xử lý bề mặt hợp kim Magie (Mg alloy)

http://ngvanphuong.blogspot.com/2019/12/bai-13-xu-ly-be-mat-hop-kim-magie-mg.html

 

4. Xử lý bề mặt hợp kim nhôm: Chromate và non-chromate

http://ngvanphuong.blogspot.com/2020/06/bai-22-xu-ly-be-mat-hop-kim-nhom.html



Xử lý bề mặt trong lĩnh vực điện tử - Surface finishing for electronics

 

1. Quy trình mạ các thiết bị kết nối đúc MID (Molded Interconnect Device)

http://ngvanphuong.blogspot.com/2019/11/bai-11-quy-trinh-ma-cac-thiet-bi-ket.html

 

2. ENIG là gì? Quy trình xử lý bề mặt các bo mạch điện tử

http://ngvanphuong.blogspot.com/2020/01/bai-17-enig-la-gi-quy-trinh-xu-ly-be.html

 

3. Một số vấn đề cơ bản của quy trình ENIG

http://ngvanphuong.blogspot.com/2020/06/bai-19-mot-so-van-e-co-ban-cua-quy.html

 

4. Mạ điện đồng cho bo mạch, linh kiện điện tử, bán dẫn

http://ngvanphuong.blogspot.com/2020/11/bai-24-ma-ien-ong-cho-bo-mach-linh-kien.html



Mạ điện - Electroplating

 

1. Quy trình mạ lên nền nhựa (Plating on Plastic – POP)

http://ngvanphuong.blogspot.com/2019/10/bai-5-quy-trinh-ma-tren-nen-nhua.html

 

2. Mạ điện nickel – Nickel electroplating

http://ngvanphuong.blogspot.com/2019/10/bai-10-ma-ien-nickel-nickel.html

 

3. Mạ chromium, chromium electroplating

http://ngvanphuong.blogspot.com/2019/12/bai-14-ma-chromium-chromium.html

 

4. Mạ điện đồng cho bo mạch, linh kiện điện tử, bán dẫn

http://ngvanphuong.blogspot.com/2020/11/bai-24-ma-ien-ong-cho-bo-mach-linh-kien.html

 

5. Phương pháp phân tích dung dịch mạ bằng máy CVS (Cyclic Voltammetric Stripping)

http://ngvanphuong.blogspot.com/2020/11/bai-25-phuong-phap-phan-tich-dung-dich.html


 

Bài khác

 

1. Thương mại hóa sản phẩm nghiên cứu

http://ngvanphuong.blogspot.com/2019/10/bai-6-thuong-mai-hoa-san-pham-nghien-cuu.html

 

2. Đo lường pH của dung dịch, ảnh hưởng của nhiệt độ và các yếu tố tới kết quả đo

http://ngvanphuong.blogspot.com/2019/10/bai-8-o-luong-ph-cua-dung-dich-anh.html

 

3. Thảo luận: Khi pha H2SO4 đặc thì đổ acid và nước hay đổ nước vào acid? Tại sao?

http://ngvanphuong.blogspot.com/2019/10/khi-pha-h2so4-ac-thi-o-acid-va-nuoc-hay.html

Thứ Hai, 9 tháng 11, 2020

Bài 25. Phương pháp phân tích dung dịch mạ bằng máy CVS (Cyclic Voltammetric Stripping)

Giới thiệu

Đối với anh chị em làm lĩnh vực liên quan tới mạ điện, Hull cell là thiết bị không thể thiếu để xác định dải mật độ dòng mạ phù hợp hay đánh giá ảnh hưởng tương đối của các phụ gia trong quá trình mạ. Tuy nhiên, Hull cell không phân tích được chính xác nồng độ của các phụ gia hoặc với dung dịch có hệ phụ gia phức tạp chỉ xài Hull cell không thì không đủ để kiểm soát được bể mạ.

Cyclic Voltammetric Stripping (CVS) là một trong những phương pháp đo điện hóa hiệu quả để phân tích nồng độ phụ gia, dự đoán cơ chế động học hay đánh giá dung dịch mạ điện. Về cấu tạo, CVS giống một bộ thiết bị đo điện hóa cơ bản bao gồm 3 điện cực: điện cực tham khảo (so sánh) – Reference electrode, điện cực hoạt động – Working electrode và điện cực đếm – counter electrode. Ba điện cực này được kết nối với nguồn phân tích (Potentiostat) và thường điều khiển được từ máy tính. CVS hoạt động đơn giản là quét thế trong dải cài đặt, từ đó đo dòng điện chạy qua giữa 2 điện cực working và couter electrodes. Sự hoạt động của các phụ gia sẽ ảnh hưởng lên giá trị dòng điện khi quét thế làm thay đổi giá trị này. Dựa vào sự thay đổi đường cong CVS để xác định được nồng độ hay tác dụng của các thành phần phụ gia.

CVS hoạt động như thế nào?

Hình 1 là một chu kỳ quét của CVS đối với dung dịch mạ điện đồng (tốc độ quay của electrode là 2000 vòng/phút). Thế được quét từ +1.9 V về -0.35 V, sau đó quét ngược từ -0.35V về + 1.9 V (vs. SCE) để hoàn thành 1 chu kỳ quét. Trong quá trình này, thế được quét với tốc độ 100 mV/s (trục hoành) và giá trị dòng điện đi qua working và counter electrode được ghi lại trên trục tung. Khi dòng = 0, tức là không xảy ra phản ứng oxi hóa hay khử nào trên điện cực.

Hình 1. Hình dạng bản CVS của dung dịch mạ đồng (chứa CuSO4 H2SO4 + phụ gia)


Có thể chia ra CVS hình 1 ra làm 3 vùng cơ bản: Vùng mạ (plating) khi quét thế từ dương sang âm, ứng với dòng âm; Vùng hòa tan (stripping) khi quét thế từ – sang +  ứng với dòng dương, và vùng làm sạch (cleaning) khi quét thế tới maximum +. Sau đó, chu kỳ quét lại lặp lại, cho tới khi giá trị đo ổn định hoặc đạt được số chu kỳ quét do người vận hành cài đặt.

Ở vùng mạ (plating), ngoài việc kim loại được mạ lên working electrode còn có thể có hydrogen bị khử (thành H2). Vì vậy, nếu đo khối lượng kim loại đã kết tủa thông qua dòng điện ở vùng này sẽ trở nên thiếu chính xác.

Ở vùng stripping, toàn bộ kim loại được mạ ở vùng plating, sẽ được hòa tan trở lại dung dịch. Dựa vào dòng điện và diện tích vùng này, có thể đo được khối lượng kim loại đã kết tủa ở vùng mạ. Đơn vị của stripping = dòng x thời gian = charge (mC hay C).

Ở vùng cleaning, sau khi stripping kết thúc, thế tiếp tục được quét tới vùng thế dương (do mình cài đặt), các chất hấp phụ trên bề mặt sẽ bị khử hoàn toàn ra khỏi điện cực, có thể có cả O2 sinh ra, làm sạch bề mặt để chuẩn bị quay lại chu kỳ quét tiếp theo.

Ở giữa vùng hòa tan và vùng làm sạch, có thể cài đặt một số thế để kiểm tra sự có mặt của Cl– hay các chất phụ gia nhờ vào dòng giải hấp của các chất này. Tuy nhiên, kết quả đo này thường có sai rố rất lớn nên ít khi sử dụng để phân tích.

Working electrode được kết nối với motor có thể điều chỉnh được tốc độ quay. Có thể sử dụng quét CVS ở các tốc độ quay của electrode khác nhau để xác định động học của quá trình mạ, khi nào tốc độ mạ quyết định do quá trình động học phản ứng (kinetic control), khi nào quá trình mạ quyết định bởi sự khuếch tán của các ions (diffusion control), hay mỗi phụ gia khác nhau sẽ có tốc độ hấp phụ lên bề mặt khác nhau, tùy thuộc vào tốc độ quay của working electrode.

Rất đơn giản về nguyên lý nhưng lại ứng dụng rất nhiều trong điện hóa, có thể sử dụng để đánh giá tác động của các phụ gia hoặc dùng cách phương pháp để phân tích nồng độ các phụ gia có mặt trong dung dịch mạ.

Hình 2 ví dụ kèm một chu kỳ quét của dung dịch mạ thiếc từ dung dịch chứa methanesulfonic acid – MSA (tốc độ quay của electrode là 1000 vòng/1 phút). Về cơ bản, cũng có thể chia ra làm 3 vùng như đối với dung dịch mạ đồng, tuy nhiên, sự khác biệt nằm ở vùng mạ. Vùng mạ của dung dịch mạ thiếc xuất hiện 2 peaks (đỉnh) A và B; Khi đó, nếu tách riêng dạng quét thế-dòng như hình 2B thì không thể phân tích chính xác peak A và B xảy ra hiện tượng gì. Rất nhiều bài báo khoa học nhầm lẫn peak A là quá trình mạ Sn xảy ra còn peak B là do sự sinh ra của hydro, làm cản trở sự tiếp xúc của bề mặt với dung dịch. Để phân tích được chính xác, sẽ so sánh các thế quét kèm với phần kim loại mạ được khi quét trở lại (stripping region).

Hình 2. (A) CVS của dung dịch mạ Sn (màu đỏ) từ dung dịch methanesulfonic acid (MSA) so sánh với CVS của dung dịch mạ đồng (màu đen); (B) Tách riêng phần scan tới điện thế âm của mạ Sn
 

Kỹ thuật đo này nó gần giống với kỹ thuật đo bằng EQCM (Electrochemical Quartz Crystal Microbalance) khi đo được đồng thời điện thế - dòng và khối lượng kim loại kết tủa thông qua sự thay đổi tần số rung của các tinh thể vàng trên điện cực. EQCM cho độ nhạy rất cao lên tới nano gam/cm2 nên có thể đo được cả sự hấp phụ và giải hấp của các phụ gia phụ thuộc vào thế quét một cách dễ dàng. Nhưng EQCM khá khó vận hành, phân tích đòi hỏi trình độ cao và chi phí cũng rất đắt đỏ.

Hình 3 là ví dụ CVS tách riêng phần scan tới điện thế âm và stripping charge của dung dịch mạ đồng trong vài trường hợp: (1) = Dung dịch cơ bản chỉ có CuSO4 + H2SO4; (2) = (1) + Cl- 50 ppm; (3) = (2) + PEG 2.0 g/L; (4) = (3) + SPS; (5) = (4) + JGB. 

 
Hình 3. CVS phần scan tới điện thế âm của dung dịch mạ đồng trong vài trường hợp: (1) = Dung dịch cơ bản chỉ có CuSO4 + H2SO4; (2) = (1) + Cl- 50 ppm; (3) = (2) + PEG 1.5 g/L; (4) = (3) + SPS; (5) = (4) + JGB.

 

Khi mà đường này dịch xuống phía dưới, tức là dòng mạ lớn hơn cũng có nghĩa là tốc độ mạ được tăng lên và ngược lại. Từ kết quả của hình 3, có thể thấy là nếu chỉ cho Cl- vào dung dịch mạ đồng, sẽ làm tăng tốc độ mạ. PEG làm giảm đáng kể tốc độ mạ, từ đó kết luận PEG là chất gây ức chế quá trình mạ (suppressor); Khi có mặt của SPS, tốc độ mạ tăng trở lại, chứng tỏ SPS làm tăng tốc độ mạ (accelerator); Còn leveler như JGB, giảm nhẹ tốc độ mạ. Thực ra, leveler có xu hướng ức chế quá trình mạ ở thế thấp và tăng tốc quá trình mạ ở thế cao. Vai trò của từng thành phần sẽ được phân tích cụ thể ở các bài viết sau này.

Hình 4 là ví dụ của CVS phần scan tới điện thế âm của 2 dung dịch (A) dung dịch mạ đồng cơ bản chứa CuSO4 + H2SO4 và (B) Dung dịch có 2 g/L PEG với các nồng độ Cl- lần lượt là 0, 25, 50 và 100 ppm. Đối với dung dịch chỉ có CuSO4 + H2SO4, tốc độ mạ tăng khi tăng nồng độ Cl- từ 0 đến 100 ppm. Sự khác biệt gần như không đáng kể ở nồng độ Cl- là 50 và 100 ppm, do đó, thường Cl- dùng trong dung dịch mạ chỉ ở khoảng 40~50 ppm.

 Hình 4. CVS phần scan tới điện thế âm của (A) dung dịch mạ đồng cơ bản chứa CuSO4 + H2SO4; (B) Dung dịch chứa 2 g/L PEG với nồng độ Cl- lần lượt là 0, 25, 50 và 100 ppm.

 

Khác hoàn toàn trường hợp trên, khi dung dịch có thêm 2 g/L PEG thì khi tăng nồng độ Cl- từ 0~50 ppm lại tăng mức độ ức chế của phản ứng mạ lên đáng kể (Hình 4B), trong khi nếu không có PEG, tăng nồng độ Cl- lên lại làm tăng tốc độ phản ứng mạ. Điều này chứng tỏ xảy ra sự kết hợp giữa PEG-Cl- và Cu2+ để hình thành một dạng phức [PEG-Cu2+-Cl-], phức này có khả năng hấp phụ lên bề mặt điện cực làm ngăn cản quá trình mạ xảy ra. Hay nói cách khác, Cl- có thể kết hợp với PEG và Cu2+ làm tăng thêm vai trò suppressor của PEG trong dung dịch mạ đồng.

Như vậy, bằng 2 thí nghiệm rất đơn giản có thể hiểu được vai trò của PEG và Cl- trong dung dịch mạ đồng, thông qua phân tích CVS.

Việc có thể đo đồng thời 3 giá trị: điện thế – dòng – khối lượng kim loại mạ rất hữu ích để làm căn cứ dự đoán động học của quá trình mạ. Ví dụ Hình 5 khi quét CVS của dung dịch mạ điện đồng với các giá trị thế tới hạn âm khác nhau, từ –0.1~–0.6 V vs. SCE, và khối lượng kim loại mạ thông qua đo phần charge sinh ra ở giai đoạn stripping. Với bất kỳ thế quá hạn nào thì các đường cong điện thế – dòng hoàn toàn trùng khít lên nhau và kết quả phần kim loại mạ được cũng tuân theo đúng nguyên lý động học Butler–Volmer (dạng hàm lũy thừa). Lý do ở đây là thế khử của Cu2+ dương hơn so với của hydro, nên ở thế này dòng điện dành cho việc khử H+ thành H2 gần như không đáng kể.

Hình 5. (A) Ảnh hưởng của giá trị điện thế âm (negative limit potential) khi quét của dung dịch mạ đồng từ -0.1 đến -0.6 V và (B) phần charge đo được ở vùng stripping.

 

Với các kim loại có thế khử âm hơn hydro, ví dụ như Sn2+ thì đường CVS khác khá nhiều, thường xuất hiện 2 peaks (Hình 2). Khi đó, kết hợp phân tích dòng-thế-charge sẽ giải thích được chính xác hơn nguyên lý động học của quá trình mạ.

Hình 6 là CVS của dung dịch mạ điện thiếc, từ dung dịch MSA với các giá trị thế tới hạn âm khác nhau, từ –0.6~–1.4 V vs. SCE. Thứ nhất, các đường không trùng lên nhau, ở thế quét tới hạn thấp thì mật độ dòng lại cao hơn, và mật độ dòng giảm dần khi tăng thế tới hạn. Peak thứ nhất, chỉ xuất hiện một cách rõ ràng khi quét thế tới hạn là –0.9 V. Không ít bài báo khoa học cho rằng peak thứ nhất này là sự khử của Sn2+ về Sn0 khi phân tích chỉ xem xét đường cong voltage-current (potentiodynamic polarization scan). Tuy nhiên, nếu so sánh với phần charge stripping của dung dịch này thấy thấy stripping charge ~0 với thế quét cao hơn –0.75 V vs. SCE. Điều đó chứng tỏ với thế cao hơn –0.75 V vs. SCE (về phía dương) thì trên cathode thuần túy chỉ có hydrogen bay ra, mà chưa có bất kỳ lượng Sn nào được mạ. Sn chỉ bắt đầu mạ trên bề mặt khi thế quét âm hơn –0.78 V vs. SCE.


 Hình 6. (A) Ảnh hưởng của giá trị điện thế âm (negative limit potential) khi quét của dung dịch mạ thiếc từ -0.6 đến -1.4 V và (B) phần charge đo được ở vùng stripping.


Việc mật độ dòng điện giảm khi tăng thế âm chứng tỏ có sự hình thành một hợp chất trung gian, hấp phụ lên bề mặt cản trở sự khử của H+ thành H2.

Thực ra, dung dịch mạ thiếc này sử dụng trong điện tử, cũng sử dụng 3 thành phần phụ gia có tác dụng khác nhau: Suppressor, Accelerator và Leveler, giống như các thành phần sử dụng trong dung dịch mạ điện đồng, mà em sẽ giới hạn không đi sâu trong bài viết này. Phức trung gian hình thành ở đây là sự hấp phụ của phức [Suppressor-Sn2+] lên bề mặt điện cực, giống như trường hợp của [PEG-Cu2+Cl-] trong dung dịch mạ đồng.

 

Kết luận

CVS khá đơn giản khi đo, nhưng sử dụng các phép đo, hoặc các phương pháp đo khác nhau mà có thể biết được rất nhiều thông tin từ dung dịch mạ từ động học quá trình mạ tới ảnh hưởng cụ thể của các loại phụ gia. Bên em hiện tại sử dụng máy QUALILAB QL-5® Plating Bath Analyzer của ECI Technology, đây là máy đã được đăng ký phát minh (Patented) để phân tích dung dịch mạ một cách tự động năm 2001.

Ngoài dung dịch mạ điện, máy này có thể sử dụng phân tích một số dung dịch khác như phân tích nồng độ NaHPO2 của dung dịch mạ hóa nickel, phân tích Cl và đặc biệt là nồng độ các phụ gia hữu cơ.

Trong bài tới, em sẽ viết hướng dẫn phân tích các thành phần suppressor (PEG), accelerator (SPS) và leveler (JGB) của dung dịch mạ điện đồng trong lĩnh vực điện tử.

 

Chú ý: Những bài viết của em cũng được lưu lại trong trang blog cá nhân: http://ngvanphuong.blogspot.com/ Các ACE nếu có đăng lại bài viết của em, vui lòng ghi nguồn tham khảo bằng link trên hoặc là: "Nguyễn Văn Phương, MSC Co., Ltd. Incheon, Korea" nhé. Em xin cảm ơn.